氣氛爐 當前位置:主頁 > 產品展示 > 實驗電爐 > 氣氛爐 >

氫氣還原爐

一、氫氣還原爐用途
       氫氣還原爐適用於電子陶瓷與樱桃小视频和短视频入口下载結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料製備、粉末冶金、納米材料、熒光粉的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,應用於電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在還原、惰性氣氛環境下進行燒結。

二、氫氣還原爐特點
       1、控製精度:±1℃    爐溫均勻度:±1℃(根據加熱室大小而定)。
       2、微電腦控製,操作方便,可編程,自動升溫、自動保溫、自動降溫。
       3、爐管采用剛玉99陶瓷。
       4、不鏽鋼金屬法蘭密封(雙膠圈)
       5、爐體溫度接近室溫
       6、雙回路保護
       7、進口耐火材料,保溫性能好,耐溫高
       8、大真空度 -0.1Mpa
       9、可通多種氣體(氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等)
       10、溫度類別:1000℃    1200℃   1400℃   三種

三、氫氣還原爐參數
型號 爐膛尺寸(mm)D×W×H 功率(kw) 樱桃小视频首页地址度℃ 額定溫度℃ 加熱元件 電壓 升溫速率
TDRG1400-20 200×150×150 5 1400℃ 1300℃ 矽碳棒 220V ≤20℃/min
TDRG1400-30 300×200×200 7 1400℃ 1300℃ 矽碳棒 220V ≤20℃/min
TDRG1400-30A 300×250×250 8 1400℃ 1300℃ 矽碳棒 380V ≤20℃/min
TDRG1400-40 400×300×300 12 1400℃ 1300℃ 矽碳棒 380V ≤20℃/min
注:可根據用戶要求另行設計製造,不同規格及參數和詳細技術方案請來電谘詢!